其中两名消息人士指出，被三星要求延迟发货的设备涉及ASML的先进芯片制造设备极紫外线（EUV）光刻。这批机器原定于今年早些时候交付，但到目前还没有发货。 EUV机器每台耗资约2亿美元，通过光束在硅片上创造设计式样，被广泛用于制造智能手机、电子设备 ...

ASML 没有透露推迟晶圆厂投产的客户名字。 最新报道援引两名消息人士的话称，延迟向三星泰勒工厂发货涉及 ASML 的先进芯片制造设备 —— 极紫外（EUV）光刻机。其中一名消息人士表示，这些机器原定于今年早些时候交付，但尚未发货。 目前尚不清楚三星订购 ...

【ITBEAR】在当前的芯片制造工艺领域，EUV光刻机无疑是一道难以跨越的门槛，任何芯片企业都无法回避这一核心设备的重要性。 EUV光刻机之所以关键，是因为它能够制造5nm及以下的芯片。若要实现这一尺度芯片的大规模生产，EUV技术不可或缺。佳能虽然声称其NIL ...

Beim Lithografie-Verfahren wird extrem ultraviolettes Licht (EUV) auf einen Halbleiterrohling, einen sogenannten Wafer, geschickt. Die Strukturen der elektronischen Bauelemente werden so auf den ...

EUV ist ein Beispiel dafür ... Maß an Bürokratie und viele Regelungen die Arbeit schwer gemacht“, sagt Fraunhofer-Präsident Hanselka. Es gibt immer mehr Regelungen etwa zum Datenschutz ...

IT之家 10 月 9 日消息，ASML 新任 CEO 傅恪礼（Christophe Fouquet）出席 SPIE 大会并发表演讲，重点介绍了 High NA EUV 光刻机。 他提到，High NA EUV 光刻机不太 ...

IT之家10 月 9 日消息，ASML 新任 CEO 傅恪礼（Christophe Fouquet）出席 SPIE 大会并发表演讲，重点介绍了 High NA EUV 光刻机。 他提到，High NA EUV 光刻机不太可能像最初的 EUV 光刻机那样出现延迟。傅恪礼还谈到了组装扫描仪子组件的新方法，即直接在客户工厂安装 ...

“EXTREME ULE 玻璃将有助于实现更高功率的 EUV 制造和更高的产量，从而扩大康宁在不断追求摩尔定律中的重要作用。” 康宁表示，EXTREME ULE 玻璃标志 ...

相比起硅基芯片，光子芯片对工艺的要求较低，一般只要百纳米以上的工艺就能满足要求，而这方面国内的光刻机也已完全能达到技术水准，更无需依赖ASML用于生产7纳米以下工艺的EUV光刻机。 据悉光子芯片较硅基芯片可以快1000倍，而功耗却低得多，如此可以 ...

Was ist unsere authentische Antwort auf die globalen Herausforderungen unserer Zeit? Die Publikation »Fraunhofer – Ideen von heute. Innovationen für morgen.« bietet eine Handreichung für Wirtschaft ...

Wohnen, arbeiten, leben - wo KI Alltag sein wird« unter diesem Motto treffen sich die Fraunhofer-Alumni am 15. November zum 7. Fraunhofer-Alumni-Summit 2024 in Heilbronn. An konkreten Beispielen und ...