11月4日消息，根据半导体研究机构TechInsights的最新发布的报告称，随着极紫外 （EUV） 光刻技术的演进，该技术日益增长的能源要求或将成为一大难题。

该站点名为"EUV加速器"，重点推进最先进的EUV光刻技术以及依赖于该技术的研发工作，将获得8.25亿美元的美国联邦投资支持。该EUV加速器将召集并促进与产业界、学术界和政府合作伙伴的合作，支持提供、培养和发展有才华的员工队伍的计划，推动半导体推进 ...

IT之家 10 月 9 日消息，ASML 新任 CEO 傅恪礼（Christophe Fouquet）出席 SPIE 大会并发表演讲，重点介绍了 High NA EUV 光刻机。 他提到，High NA EUV 光刻机不太 ...

近年来，EUV（极紫外光）和DUV（深紫外光）技术作为当前两种主要的光刻技术，逐渐占据了行业的主要位置。 它们在芯片制造中的应用越来越广泛 ...

“EXTREME ULE 玻璃将有助于实现更高功率的 EUV 制造和更高的产量，从而扩大康宁在不断追求摩尔定律中的重要作用。” 康宁表示，EXTREME ULE 玻璃标志 ...

Denn: EUV ist eine der Schlüsseltechnologien für die Produktion fortschrittlicher Mikrochips ... Der Hochleistungslaser, der von Trumpf, dem Fraunhofer-ILT und Focused Energy gebaut wird, feuert bis ...

EUV ist ein Beispiel dafür ... Maß an Bürokratie und viele Regelungen die Arbeit schwer gemacht“, sagt Fraunhofer-Präsident Hanselka. Es gibt immer mehr Regelungen etwa zum Datenschutz ...

Beim Lithografie-Verfahren wird extrem ultraviolettes Licht (EUV) auf einen Halbleiterrohling, einen sogenannten Wafer, geschickt. Die Strukturen der elektronischen Bauelemente werden so auf den ...